特許
J-GLOBAL ID:200903056501124983
撥水性組成物、表面処理された基材、その製造方法および輸送機器用物品
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-025910
公開番号(公開出願番号):特開2002-226838
出願日: 2001年02月01日
公開日(公表日): 2002年08月14日
要約:
【要約】【課題】水滴除去性およびその耐久性(耐摩耗性、耐薬品性、耐候性)に優れた表面処理層を形成しうる撥水性組成物、該撥水性組成物から形成された表面処理層を有する表面処理された基材、その製造方法および輸送機器用物品の提供。【解決手段】化合物1[Rf-Si(R)p(X)3-p]と化合物4[RF-Si(R1)q(X)3-q]および/または化合物5[SiX24](Rf:エーテル性酸素原子を有する含フッ素有機基。RF:エーテル性酸素原子を有しない含フッ素有機基。R、R1:炭素数1〜6のフッ素原子不含炭化水素基。p、q:0、1または2。X、X1、X2:ハロゲン原子または加水分解性基。)とを含む撥水性組成物。
請求項(抜粋):
下式1で表される化合物と、下式4で表される化合物および/または下式5で表される化合物、とを含むことを特徴とする撥水性組成物。RfSi(R)p(X)3-p・・・式1RFSi(R1)q(X1)3-q・・・式4SiX24・・・式5ただし、式中の記号は以下の意味を示す。Rf:エーテル性酸素原子を有する含フッ素有機基。RF:エーテル性酸素原子を有しない含フッ素有機基。R、R1:それぞれ独立して、炭素数1〜6のフッ素原子を含まない炭化水素基。X、X1、X2:それぞれ独立して、ハロゲン原子または加水分解性基。p、q:それぞれ独立して、0、1または2。
IPC (4件):
C09K 3/18 102
, B60S 1/02
, C09D 5/00
, C09D183/08
FI (4件):
C09K 3/18 102
, B60S 1/02 A
, C09D 5/00 Z
, C09D183/08
Fターム (18件):
3D025AA01
, 3D025AC20
, 3D025AD01
, 3D025AD09
, 3D025AD13
, 4H020BA36
, 4J038DL051
, 4J038DL052
, 4J038DL071
, 4J038DL072
, 4J038DL081
, 4J038DL082
, 4J038GA12
, 4J038NA07
, 4J038PB07
, 4J038PC02
, 4J038PC03
, 4J038PC08
引用特許:
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