特許
J-GLOBAL ID：200903056510690410
マイクロクラスターによるナノ構造およびその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院名古屋工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-271898
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098372
出願日： 1999年09月27日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：
【要約】【課題】 マイクロクラスターによるナノ構造およびその作製方法を提供する。【解決手段】 イオンビームスパッタ法により生成させ、質量を選別した後にヘリウムガスとの多重衝突による冷却により、その並進エネルギー幅を0.4eV以下に狭くした、単一サイズの金属、半導体等のマイクロクラスターイオンを高配向性グラファイト(HOPG)等の基板表面にエネルギーを厳密に制御して加速して打ち込み、基板シート内に固定化し、それによって単一サイズマイクロクラスターのナノ構造を作ることを特徴とする、ナノ構造作製方法、及びこの方法によって作製した銀のナノ構造薄膜。
請求項（抜粋）：
イオンビームスパッタ法により生成させ、質量を選別した後にヘリウムガスとの多重衝突による冷却により、その並進エネルギー幅を0.4eV以下に狭くした、単一サイズの金属、半導体等のマイクロクラスターイオンを基板表面にエネルギーを厳密に制御して加速して打ち込み、基板シート内に固定化し、それによって単一サイズマイクロクラスターのナノ構造を作ることを特徴とする、ナノ構造作製方法。
IPC (3件)：
C23C 14/46
, B01J 19/00
, H01L 21/203
C23C 14/46 Z
, B01J 19/00 K
, H01L 21/203 M
4G075AA22
, 4G075AA24
, 4G075BC03
, 4G075BC08
, 4G075CA39
, 4G075DA18
, 4G075FC13
, 4K029AA04
, 4K029AA24
, 4K029BA04
, 4K029BB01
, 4K029BC07
, 4K029BD01
, 4K029CA05
, 4K029DC37
, 5F103AA07
, 5F103BB22
, 5F103BB23
, 5F103DD28
, 5F103GG10
, 5F103HH10
, 5F103LL17
, 5F103RR04
