マイクロクラスターによるナノ構造およびその作製方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：工業技術院名古屋工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-271898
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098372
出願日： 1999年09月27日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】マイクロクラスターによるナノ構造およびその作製方法を提供する。【解決手段】イオンビームスパッタ法により生成させ、質量を選別した後にヘリウムガスとの多重衝突による冷却により、その並進エネルギー幅を0.4eV以下に狭くした、単一サイズの金属、半導体等のマイクロクラスターイオンを高配向性グラファイト(HOPG)等の基板表面にエネルギーを厳密に制御して加速して打ち込み、基板シート内に固定化し、それによって単一サイズマイクロクラスターのナノ構造を作ることを特徴とする、ナノ構造作製方法、及びこの方法によって作製した銀のナノ構造薄膜。

請求項（抜粋）：

イオンビームスパッタ法により生成させ、質量を選別した後にヘリウムガスとの多重衝突による冷却により、その並進エネルギー幅を0.4eV以下に狭くした、単一サイズの金属、半導体等のマイクロクラスターイオンを基板表面にエネルギーを厳密に制御して加速して打ち込み、基板シート内に固定化し、それによって単一サイズマイクロクラスターのナノ構造を作ることを特徴とする、ナノ構造作製方法。

IPC (3件)：

C23C 14/46 , B01J 19/00 , H01L 21/203

FI (3件)：

C23C 14/46 Z , B01J 19/00 K , H01L 21/203 M

Fターム (23件)：

4G075AA22 , 4G075AA24 , 4G075BC03 , 4G075BC08 , 4G075CA39 , 4G075DA18 , 4G075FC13 , 4K029AA04 , 4K029AA24 , 4K029BA04 , 4K029BB01 , 4K029BC07 , 4K029BD01 , 4K029CA05 , 4K029DC37 , 5F103AA07 , 5F103BB22 , 5F103BB23 , 5F103DD28 , 5F103GG10 , 5F103HH10 , 5F103LL17 , 5F103RR04

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平3-018013
微細構造材料の製造方法並びにその製造装置、および微細構造を有する発光素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-230073 出願人：松下電器産業株式会社
特表平3-503425

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