特許
J-GLOBAL ID:200903056523479700

光学フィルタ、及び該フィルタを製造するための露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大森 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-206178
公開番号(公開出願番号):特開2000-039505
出願日: 1998年07月22日
公開日(公表日): 2000年02月08日
要約:
【要約】【課題】 複数の互いに異なる透過率を持つ領域を組み合わせることによって全体として所定の透過率を持つと共に、その透過率を比較的容易にほぼ連続的に所定の範囲内で任意に設定できる光学フィルタを提供する。【解決手段】 原版パターン35上に幅b×幅aでX方向、及びY方向に多数配列されたドットパターン領域36の内からランダムに選択された領域を遮光ドット37A〜37Eとしておく。遮光膜、及びレジストが塗布されたガラス基板上に、位置オフセット(x,y)を与えて原版パターン35の像35P,35Qを二重露光した後、現像、及びエッチング等を行うことによって、そのガラス基板上に幅(b-x)×幅(a-y)の遮光ドット40A〜40Eが形成される。位置オフセット(x,y)の制御によって、そのガラス基板の透過率を連続的に制御できる。
請求項(抜粋):
複数の互いに異なる透過率を持つ領域を組み合わせて配置することによって全体として所定の透過率を持つようにした光学フィルタであって、基板上を交差する2方向に所定ピッチで複数の同一形状のドットパターン領域に分割し、該複数のドットパターン領域から少なくとも一つの第1のドットパターン領域を選択し、該選択された第1のドットパターン領域を前記2方向の内の少なくとも一方向に区切ることによって部分ドットパターン領域を設定し、該設定された部分ドットパターン領域に背景領域の第1の透過率と異なる第2の透過率を持たせたことを特徴とする光学フィルタ。
IPC (3件):
G02B 5/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G02B 5/00 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 A
Fターム (13件):
2H042AA06 ,  2H042AA08 ,  2H042AA25 ,  5F046AA05 ,  5F046BA03 ,  5F046CA02 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB08 ,  5F046CB23 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DC10

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