特許
J-GLOBAL ID：200903056556526940
プラズマCVM研磨加工用電極
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-193773
公開番号（公開出願番号）：特開平7-166375
出願日： 1993年08月04日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：
【要約】【構成】 反応性ガスおよび不活性ガスの混合ガスに1気圧以上の圧力下に高周波電圧を印加して生成させたプラズマラジカルにより被加工物表面を反応研磨加工するための加工用電極であって、被加工物表面に放射口が対向する導電性のノズル部と、このノズル部に連設される中空ディストリビュータ部と、ディストリビュータ部に混合ガスを供給するケーシング部とを有し、ディストリビュータ部とケーシング部とは混合ガスの供給孔によって連通され、この供給孔はディストリビュータ部およびノズル部の中心軸に対して傾斜配置されており、供給孔を通じて供給された混合ガスはディストリビュータ部およびノズル部内に旋回流を生成し、高周波電圧がノズル部に印加されて被加工物表面に旋回ガス流のプラズマラジカルが放射される。【効果】プラズマCVM加工の特徴を生かし、しかも加工パターンが明確で、堆積物の付着を抑え、精度の良い効率的研磨加工を可能とする。
請求項（抜粋）：
反応性ガスおよび不活性ガスの混合ガスに1気圧以上の圧力下に高周波電圧を印加して生成させたプラズマラジカルにより被加工物表面を反応研磨加工するための加工用電極であって、被加工物表面に放射口が対向する導電性のノズル部と、このノズル部に連設される中空ディストリビュータ部と、ディストリビュータ部に混合ガスを供給するケーシング部とを有し、ディストリビュータ部とケーシング部とは混合ガスの供給孔によって連通され、この供給孔はディストリビュータ部およびノズル部の中心軸に対して傾斜配置されており、供給孔を通じて供給された混合ガスはディストリビュータ部およびノズル部内に旋回流を生成し、高周波電圧がノズル部に印加されて被加工物表面に旋回ガス流のプラズマラジカルが放射されることを特徴とするプラズマCVM研磨加工用電極。
IPC (2件)：
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