光ファイバの処理方法、光ファイバの製造方法、光ファイバ

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-340754
公開番号（公開出願番号）：特開2003-137580
出願日： 2001年11月06日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：

【要約】【課題】石英ガラス系光ファイバの伝送損失の増加を抑制できる、光ファイバの処理方法を提供する。【解決手段】先ず、光ファイバ母材が線引きされて光ファイバが製造される。この光ファイバの外周に樹脂が被覆され、光ファイバ素線2が製造される。光ファイバ素線2が巻き付けられたファイバボビン3が、密閉容器11内に置かれた後、重水素ガス及び希釈ガスがガス供給源から密閉容器11へ供給される。ここで、密閉容器11内の重水素ガスの濃度は4体積%未満とされる。密閉容器11内の雰囲気が重水素ガス及び希釈ガスで置換された後、温度調整器12により、密閉容器11内の温度は40°C以下の温度に調整される。この状態で、光ファイバ素線2は重水素に所定の時間晒される。

請求項（抜粋）：

40°C以下の温度において重水素を含む雰囲気に光ファイバを晒すことを特徴とする、光ファイバの処理方法。

IPC (4件)：

C03B 37/00 , C03C 25/00 , G02B 6/00 356 , G02B 6/00 376

FI (4件)：

C03B 37/00 Z , C03C 25/00 , G02B 6/00 356 A , G02B 6/00 376 A

Fターム (8件)：

2H050AA01 , 2H050AB05X , 2H050AD17 , 4G021AA00 , 4G060AB01 , 4G060AC01 , 4G060AD06 , 4G060AD41

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-158807
増幅用光ファイバとその製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-073452 出願人：古河電気工業株式会社
光ファイバの1380nm〜1410nmにおける水素感度を低減させる方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-247687 出願人：アルカテル

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