特許
J-GLOBAL ID:200903056567989756

純水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-060721
公開番号(公開出願番号):特開平8-252600
出願日: 1995年03月20日
公開日(公表日): 1996年10月01日
要約:
【要約】【目的】 被処理水タンク1、逆浸透膜装置2及びイオン交換装置3を有する純水製造部Iと、純水製造部Iで製造された純水が導入される純水タンク4及び該純水タンク4から純水が供給される膜分離装置7を有するサブシステム部IIとを備える純水製造装置を効率的に殺菌して、殺菌頻度を低減する。【構成】 膜分離装置7と被処理水タンクと1を連結する循環ライン20,22を設けると共に、純水製造部I、サブシステム部II及び循環ライン20,22で形成される循環ループを流れる水の加熱手段5を設ける。【効果】 純水製造装置の系内全体を熱水殺菌することができ、純水製造部で得られる純水の生菌数も低減され、サブシステム部の生菌負荷が軽減されるため、少ない殺菌頻度にて、長期間安定に高純度な精製水を得ることが可能となる。
請求項(抜粋):
被処理水タンク、逆浸透膜装置及びイオン交換装置を有する純水製造部と、純水製造部で製造された純水が導入される純水タンク及び該純水タンクから純水が供給される膜分離装置を有するサブシステム部とを備える純水製造装置において、前記膜分離装置と被処理水タンクとを連結する循環ラインを設けると共に、純水製造部、サブシステム部及び循環ラインで形成される循環ループを流れる水の加熱手段を設けたことを特徴とする純水製造装置。
IPC (5件):
C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  C02F 1/00
FI (7件):
C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 A ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 E ,  C02F 1/00 B

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