多層膜反射鏡、軟X線光学機器、露光装置及びその清掃方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡部温 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-025160
公開番号（公開出願番号）：特開2003-227898
出願日： 2002年02月01日
公開日（公表日）： 2003年08月15日
要約：

【要約】【課題】表面の炭素コンタミネーションの抑制された多層膜反射鏡、軟X線光学機器、露光装置及びその清掃方法を提供すること。【解決手段】本発明の多層膜反射鏡は、軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が大きい物質からなる第1層3と前記屈折率と真空の屈折率との差が小さい物質からなる第2層2とを基板4上に交互に積層してなり、多層膜の最上層上に光触媒材料で形成された保護層1を具備する。本発明の多層膜反射鏡によれば、表面の炭素のコンタミネーションを除去できる。

請求項（抜粋）：

軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が大きい物質からなる第1層と前記屈折率と真空の屈折率との差が小さい物質からなる第2層とを基板上に交互に積層してなる多層膜を備える反射鏡であって、更に、前記多層膜の最上層上に形成された光触媒材料からなる保護層を備えることを特徴とする多層膜反射鏡。

IPC (7件)：

G21K 1/06 , G02B 5/08 , G02B 17/00 , G03F 7/20 503 , G03F 7/22 , G21K 5/02 , H01L 21/027

FI (7件)：

G21K 1/06 C , G02B 5/08 A , G02B 17/00 Z , G03F 7/20 503 , G03F 7/22 H , G21K 5/02 X , H01L 21/30 531 A

Fターム (20件)：

2H042DA01 , 2H042DA12 , 2H042DA18 , 2H042DB00 , 2H042DC02 , 2H042DE00 , 2H087KA21 , 2H087NA05 , 2H087TA02 , 2H087UA09 , 2H097AA02 , 2H097AB09 , 2H097BA04 , 2H097BA10 , 2H097CA15 , 2H097EA01 , 2H097GB00 , 2H097LA10 , 5F046GA03 , 5F046GB01

引用特許：

審査官引用 (21件)

特開昭63-088503
X線露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-295457 出願人：株式会社ニコン
露光装置、該露光装置に用いるマスク構造体、露光方法、前記露光装置を用いて作製された半導体デバイス、および半導体デバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-093523 出願人：キヤノン株式会社

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