特許
J-GLOBAL ID:200903056574376298

投影露光の最適化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-191845
公開番号(公開出願番号):特開平7-029813
出願日: 1993年07月07日
公開日(公表日): 1995年01月31日
要約:
【要約】【目的】 高解像露光方法(位相シフト法、斜入射照明法およびフィルタ付斜入射照明法)における像歪の補正を達成するために、像のシミュレーションにおいて解像度と歪量とを組み合わせた評価関数を提供し、補正対象を効率よく最適化する。【構成】 マスク20の21は光の透過しない部分、22は光を透過する部分である。評価関数(eval)はマスクパタン中に示す7つの黒点(1〜7)における光強度値a1,a2,・・・a7を用いて、次式のように構成する。eval={(a1-a7)*(a1-a7)+(a2-a7)*(a2-a7)+(a3-a7)*(a3-a7)+(a5-a7)*(a5-a7)}/(a4*a4)+(a4+a6)*(a4+a6)/{(a4-a6)*(a4-a6)}このevalを用いてフィルタの光に対する振幅透過率分布を最適化し、パタン歪を補正する。
請求項(抜粋):
所要パタン形状のマスクを用い、照明及び投影光学系によってウエハ上に結像するマスク投影像を最適化する方法において、パタン歪と解像度とを組み合わせた評価関数によって、計算によって投影光学系のパラメータの最適組み合わせを設定することを特徴とする投影露光の最適化方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

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