特許

J-GLOBAL ID：200903056581029153

自己整合型真空封止組立体

発明者： デレック アクイ
出願人/特許権者： ハイ イールド テクノロジー, インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 小橋 一男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-005022
公開番号（公開出願番号）：特開平8-246127
出願日： 1996年01月16日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：

【要約】【課題】 自己整合型の真空封止システムを提供する。【解決手段】 本発明システム(300)は処理室(36)又はポンプライン(30)へ取付けられている螺子を設けたニップル(20)と、該ニップルに螺合されており光学装置(26)を受納するために設けられたカップリング(23)と、カップリングの第二係合表面上に配置したウインドウ(24)と、カップリングとニップルとの間に設けたOリング(22)と、カップリングとウインドウとの間に設けたOリング(30)とを有している。

請求項（抜粋）：

光学装置と処理室との間に真空封止を与えるシステムにおいて、前記処理室へ接続されており且つ内部係合表面と螺設外部表面とを具備するニップル、前記ニップルの前記螺設外部表面上へ螺合させた内部に螺子を設けたカップリングであって前記ニップルの前記内部係合表面と接触する内部的な第一係合表面を具備すると共に第二係合表面を具備しており且つ前記光学装置を受納するために前記処理室から遠ざかる位置に設けた部分を具備するカップリング、前記カップリングの前記第二係合表面と接触する係合表面を具備するウインドウ、前記カップリングの前記第一係合表面と前記ニップルの前記係合表面との間に真空封止を形成する手段、前記カップリングの前記第二係合表面と前記ウインドウの前記係合表面との間に真空封止を形成する手段、を有することを特徴とするシステム。

IPC (3件)：

C23C 14/00 ,  G02B 7/00 ,  H01L 21/02

FI (3件)：

C23C 14/00 C ,  G02B 7/00 F ,  H01L 21/02 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-314053
  
• 特開平1-213056
  
• 特開昭63-234654