特許
J-GLOBAL ID：200903056590523152
排ガスの浄化方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-292301
公開番号（公開出願番号）：特開平8-206445
出願日： 1986年06月03日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造工程などから排出されるシラン等の有毒成分を含有する排ガスを効率よく浄化する方法を提供すること。【解決手段】 浄化剤として、(1)酸化第二銅、及び(2)リチウム,マグネシウム,カルシウム,ストロチウムあるいはバリウムの金属水酸化物を一定割合で配合した組成物を成形してなる密度1.5〜3.5g/mlの成形体を用いることによって、シラン等の有毒成分を含有する排ガスを浄化する方法である。
請求項（抜粋）：
有毒成分としてシランを含有するガス、または有毒成分としてシランとアルシン,ホスフィン,ジボランおよびセレン化水素の一種以上とを含有するガスと、浄化剤とを接触させて当該ガスから有毒成分を吸着除去する排ガスの浄化方法において、浄化剤として(1)酸化第二銅、および(2)リチウム,マグネシウム,カルシウム,ストロチウムおよびバリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属水酸化物を配合してなり、その組成が金属の原子比 M/(M+Cu)〔式中、Cuは銅の原子数を示し、MはLi,Mg,Ca,SrまたはBaの原子数(これらの成分を二種以上使用するときはそれらの原子数の合計)を示す〕で0.01〜0.7であり、かつその組成物を成形してなる密度1.5〜3.5g/mlの成形体を用いることを特徴とする排ガスの浄化方法。
IPC (5件)：
B01D 53/46
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/72
, B01D 53/64
, B01J 20/06
B01D 53/34 120 A
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 120 D
, B01D 53/34 136 Z
