特許
J-GLOBAL ID：200903056592820219
光強度分布シミュレーション方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平戸 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-043917
公開番号（公開出願番号）：特開平9-237750
出願日： 1996年03月01日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：
【要約】【課題】投影露光装置における露光対象上の光強度分布を求めるための光強度分布シミュレーション方法に関し、光強度分布を効率良く求めることができるようにする。【解決手段】光強度分布を求めるホトレジスト膜上の領域に対応するホトマスクの領域26を同一サイズの分割領域27VWに分割し、分割領域27VWが投影されるホトレジスト膜上の領域の光強度に無視できない影響を与える周辺領域28VWを含む領域を単位計算領域29VWとして設定し、単位計算領域2911について相互透過係数を求めた後、この相互透過係数を使用して分割領域27VWごとにホトマスクによるホトレジスト膜上の光強度を計算する。
請求項（抜粋）：
光源から射出される光を使用してホトマスクに描かれているパターンを投影レンズを介して露光対象に投影する投影露光装置における前記ホトマスクによる前記露光対象上の光強度分布を求める光強度分布シミュレーション方法において、前記光強度分布を求める前記露光対象上の領域に対応する前記ホトマスクの領域を同一サイズの複数の分割領域に分割し、これら複数の分割領域の1個を対象として相互透過係数を計算する第1工程と、前記相互透過係数を使用して前記分割領域ごとに前記ホトマスクによる前記露光対象上の光強度を計算する第2工程とを、含んでいることを特徴とする光強度分布シミュレーション方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 516 C
, G03F 1/08 S
