特許
J-GLOBAL ID：200903056598365122
光学異方体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-160514
公開番号（公開出願番号）：特開2002-348319
出願日： 2001年05月29日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：
【要約】【課題】液晶性(メタ)アクリレート化合物を含有する重合性液晶組成物を液晶状態で重合し、透明性に優れた光学異方体を得る製造方法を提供する。【解決手段】 一般式(I)で表される液晶性(メタ)アクリレート化合物を含有する重合性液晶組成物を、30°C以上液晶相-等方性液体相への相転移温度未満の温度範囲で光重合する、光学異方体の製造方法。【化1】(式中、L1、L2、L3は水素原子またはメチル基を表し、6員環A、Bは1,4-フェニレン基等を表し、6員環Cは1,3,4-ベンゼントリイル基等を表し、Y1、Y2は単結合、-COO-、-OCO-等を表し、X1、X2、X3は単結合、-O-等を表し、Sp1、Sp2、Sp3は炭素原子数1から20のスペーサー基を表す。)
請求項（抜粋）：
25°C以上で液晶性を示す一般式(I)で表される液晶性(メタ)アクリレート化合物を含有する重合性液晶組成物を、30°C以上から液晶相-等方性液体相への相転移温度未満の温度範囲で光重合する、光学異方体の製造方法。【化1】(式中、L1、L2、L3はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、6員環A、Bはそれぞれ独立に、1,4-フェニレン基、一つ又は隣接しない2つのCH基が窒素で置換された1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1つ又は隣接しない2つのCH2基が酸素原子又は硫黄原子で置換された1,4-シクロヘキシレン基、シクロヘキセン-1,4-ジイル基を表し、これらの6員環AとBは、さらに炭素原子数1〜7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で1つ以上置換されていても良く、6員環Cは1,3,4-ベンゼントリイル基、一つ又は隣接しない2つのCH基が窒素で置換された1,3,4-ベンゼントリイル基、1,3,4-シクロヘキサントリイル基、1つ又は隣接しない2つのCH2基が酸素原子又は硫黄原子で置換された1,3,4-シクロヘキサントリイル基、又はシクロヘキセン-1,3,4-トリイル基を表し、6員環Cの水素原子は、さらに炭素原子数1〜7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で置換されていても良く、Y1、Y2はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH2)4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、-OCO-COO-を表し、X1、X2、X3はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-、-OCO-を表し、Sp1、Sp2、Sp3は炭素原子数1から20のスペーサー基を表す。)
IPC (5件)：
C08F 20/20
, C08F 2/46
, G02B 5/30
, G02F 1/13 500
, G02F 1/13363
C08F 20/20
, C08F 2/46
, G02B 5/30
, G02F 1/13 500
, G02F 1/13363
2H049BA02
, 2H049BA06
, 2H049BA42
, 2H049BC05
, 2H049BC09
, 2H049BC22
, 2H091FA07
, 2H091FA11
, 2H091FB02
, 2H091FB03
, 4J011AC04
, 4J011QA07
, 4J011QA25
, 4J011SA00
, 4J011UA01
, 4J011WA07
, 4J100AL08Q
, 4J100AL67P
, 4J100BA02P
, 4J100BA02Q
, 4J100BA04P
, 4J100BA04Q
, 4J100BA15P
, 4J100BA15Q
, 4J100BA40P
, 4J100BA40Q
, 4J100BC04P
, 4J100BC04Q
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100DA66
, 4J100FA28
