特許

J-GLOBAL ID：200903056604587280

セラミック膜の形成方法

発明者： 早川 一精 ,  桑山 信彦 ,  岩田 克一
出願人/特許権者： 工業技術院長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-158191
公開番号（公開出願番号）：特開平8-000971
出願日： 1994年06月17日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：

【要約】【目的】ダストや浮遊物粒子の捕集・ろ過性能に優れ、機械的強度が大きく、かつ逆洗の容易なセラミック膜を形成する。【構成】平均粒子径が2μm より小さい成分が10重量%以上、2〜10μm の成分が30〜80重量%、10μm より大きい成分が10〜30重量%からなるセラミック粉末を溶媒に分散したスラリーを、平均気孔径が10〜50μm のセラミック基材上にスプレーにより塗布し、乾燥後焼成する。セラミック粉末の粒度分布を工夫したことにより、ろ過性能、機械的強度、付着強度等を同時に向上できる。

請求項（抜粋）：

平均粒子径が2μm より小さい成分が10重量%以上、2〜10μmの成分が30〜80重量%、10μm より大きい成分が10〜30重量%からなるセラミック粉末を溶媒に分散したスラリーを、平均気孔径が10〜50μm のセラミック基材上にスプレーにより塗布し、乾燥後焼成してセラミック基材上にセラミック膜を形成することを特徴とするセラミック膜の形成方法。

IPC (3件)：

B01D 71/02 ,  B01D 39/00 ,  B01D 39/20

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭61-238304