感光性樹脂組成物、これを用いたレジストパターンの製造法及び電気回路板の製造法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-103806
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292921
出願日： 1999年04月12日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】耐PCT性、現像性、密着性、耐熱性、TCT性、可とう性及び機械特性が優れる感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法を提供する。【解決手段】エポキシ化合物(a)と不飽和モノカルボン酸(b)とのエステル化物にさらに飽和又は不飽和多塩基酸無水物(c)を付加した付加反応生成物である感光性樹脂(A)、下記一般式(I)で表されるエポキシ系硬化剤(B)及び光重合開始剤(C)を含有してなる感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を基体上に積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレジストパターンの製造法。(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基等を示し、nは0〜3の整数である)

請求項（抜粋）：

エポキシ化合物(a)と不飽和モノカルボン酸(b)とのエステル化物にさらに飽和又は不飽和多塩基酸無水物(c)を付加した付加反応生成物である感光性樹脂(A)、一般式(I)【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜18のアリール基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキルアミノ基、炭素数2〜20のジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、メルカプト基、炭素数1〜10のアルキルメルカプト基、アリル基、水酸基、炭素数1〜20のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルキル基の炭素数が1〜10のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が1〜10のアシル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環を含む基を示し、nは0〜3の整数である)で表されるエポキシ系硬化剤(B)及び光重合開始剤(C)を含有してなる感光性樹脂組成物において、エポキシ化合物(a)がビスフェノールF型エポキシ化合物又はゴム変性エポキシ化合物である感光性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/027 515 , C08F299/02 , C08G 59/14 , C08G 59/42 , G03F 7/032 501 , H05K 3/28

FI (6件)：

G03F 7/027 515 , C08F299/02 , C08G 59/14 , C08G 59/42 , G03F 7/032 501 , H05K 3/28 D

Fターム (62件)：

2H025AA00 , 2H025AA04 , 2H025AA10 , 2H025AA14 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC64 , 2H025BC66 , 2H025BC74 , 2H025BC85 , 2H025CA01 , 2H025CA27 , 2H025CA28 , 2H025CA35 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 4J027AC01 , 4J027AC06 , 4J027CA10 , 4J027CA25 , 4J027CA31 , 4J027CB10 , 4J027CC05 , 4J027CD10 , 4J036AD08 , 4J036AD09 , 4J036AD11 , 4J036AD17 , 4J036AD18 , 4J036AF06 , 4J036AK03 , 4J036AK17 , 4J036CA19 , 4J036CA21 , 4J036CA22 , 4J036CA25 , 4J036CB20 , 4J036DB15 , 4J036DB22 , 4J036DC10 , 4J036DC25 , 4J036DC30 , 4J036DC31 , 4J036DC35 , 4J036DC36 , 4J036DC41 , 4J036DD04 , 4J036FA12 , 4J036FB06 , 4J036FB07 , 4J036FB09 , 4J036GA17 , 4J036GA19 , 4J036JA09 , 5E314AA27 , 5E314AA32 , 5E314FF01 , 5E314GG08 , 5E314GG11

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