特許
J-GLOBAL ID：200903056610643354
酸化チタン薄膜の製造方法および有機-無機複合傾斜材料の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 静男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252959
公開番号（公開出願番号）：特開2003-054951
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：
【要約】【課題】 チタンアルコキシドの加水分解-縮合反応により得られたゾルを安定化させると共に、緻密な酸化チタン薄膜を形成させる方法、および表面が緻密な酸化チタン薄膜からなる有機-無機複合傾斜材料の製造方法を提供する。【解決手段】 アルコキシル基の炭素数が1〜4のチタンテトラアルコキシドを炭素数3以上のエーテル系酸素を有するアルコール類と水を用い、加水分解-縮合させて光散乱強度が8〜300Pa・s8000〜300000cpsのチタニアゾル溶液を調製したのち、成膜し、次いで、特定の条件で加湿処理、さらに加熱処理して、酸化チタン薄膜を製造する方法、並びに加水分解性金属含有基を有する有機高分子化合物と前記チタニアゾルを含む塗工液を用いて、有機基材上に塗膜を形成し、特定の条件で加湿処理、さらに加熱処理して、有機-無機複合傾斜材料を製造する方法である。
請求項（抜粋）：
アルコキシル基の炭素数が1〜4のチタンテトラアルコキシドを、該チタンテトラアルコキシドに対し、4〜20倍モルの炭素数3以上のエーテル系酸素を有するアルコール類と0.5〜4倍モルの水を用い、酸性触媒の存在下で加水分解-縮合させて、光散乱強度が8000〜300000cps(count per second)の範囲にあるチタニアゾル溶液を調製したのち、基材上に成膜し、次いでこの膜を常圧下、温度40〜100°C、絶対湿度0.02kg/kgD.A.以上および相対湿度80%RH以下の条件で加湿処理し、さらに温度40〜200°C、絶対湿度0.02kg/kgD.A.未満の条件で加熱処理することを特徴とする酸化チタン薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
C01G 23/04
, C09D 1/00
, C09D185/00
, C09D201/02
C01G 23/04 C
, C09D 1/00
, C09D185/00
, C09D201/02
4G047CA02
, 4G047CB06
, 4G047CB08
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4J038AA011
, 4J038CB061
, 4J038CB091
, 4J038CC011
, 4J038CC061
, 4J038CC091
, 4J038CG141
, 4J038CH031
, 4J038CH041
, 4J038CH071
, 4J038CH081
, 4J038CH171
, 4J038CH241
, 4J038DB221
, 4J038GA15
, 4J038HA211
, 4J038JA06
, 4J038KA06
, 4J038LA02
, 4J038LA04
, 4J038NA24
, 4J038NA27
, 4J038PA19
, 4J038PA21
, 4J038PC08
