特許

J-GLOBAL ID：200903056637190092

選択された三核性ノボラックオリゴマー

発明者： ジエフリーズ,アルフレツド・テイー・ザサード ,  ブラツケニー,アンドルー・ジエイ ,  トウキー,メダート・エイ
出願人/特許権者： オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-026531
公開番号（公開出願番号）：特開平8-295716
出願日： 1989年12月16日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【課題】 新規な三核ノボラックオリゴマーを提供することにある。【解決手段】 p-(低級アルキルまたはハロ)-2,6-ビス(ヒドロキシメチル)フェノールとヒドロキシまたはハロゲン置換二価フェノールとを縮合させて三核ノボラックオリゴマーを得るもので、この三核ノボラックオリゴマーはo-ナフトキノンジアジドスルホニル化合物と反応させることにより光活性化合物に変換できるのでフォトレジストの製造原料として有用である。

請求項（抜粋）：

式【化1】(式中各Xは、水素、ヒドロキシル基及びハライド基よりなる群から選択され、そしてYは、1〜4の炭素原子を有する低級アルキル基及びハロゲン原子よりなる群から選択される)で表される三核性ノボラックオリゴマー。

IPC (8件)：

C08G 8/22 NBV ,  C07C 39/16 ,  C07C 39/367 ,  C08G 8/28 NBK ,  G03F 7/022 ,  C09D161/14 PHF ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

C08G 8/22 NBV ,  C07C 39/16 ,  C07C 39/367 ,  C08G 8/28 NBK ,  G03F 7/022 ,  C09D161/14 PHF ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R