特許

J-GLOBAL ID：200903056638376181

表面マイクロマシンの製造方法

発明者： 中島 靖志
出願人/特許権者： 日産自動車株式会社
代理人 (1件)： 中村 純之助 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-094044
公開番号（公開出願番号）：特開平10-290036
出願日： 1997年04月11日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】応力に対する制御性がよく製造歩留まりの向上に好適な表面マイクロマシンの製造方法。【解決手段】第1のシリコン基板の主面上に形成したシリコン酸化膜4をエッチングした凹部内にゲルマニウム酸化膜(5)を形成し、第1のシリコン基板の主面と第2のシリコン基板8の主面とを多結晶シリコン膜7を介して接合・加熱し、第1のシリコン基板の接合面の反対面からゲルマニウム酸化膜との界面までトレンチ13を設け、注水してゲルマニウム酸化膜(5)を溶解し、シリコン表面にゲルマニウム酸化膜(5)との界面に形成されたシリコン酸化膜を残留させる。

請求項（抜粋）：

第1のシリコン基板の一主面上に凹部を形成する凹部形成工程と、前記凹部内に水溶性のゲルマニウム酸化膜を形成する充填工程と、前記第1のシリコン基板の一主面と第2のシリコン基板の一主面とを接合するための加熱を行なうことにより、前記ゲルマニウム酸化膜と前記第1のシリコン基板との接合面にシリコン酸化膜を形成する加熱工程と、前記第1のシリコン基板の前記接合面と反対側の、前記第1のシリコン基板表面から前記ゲルマニウム酸化膜に至る開孔部を設ける開孔工程と、前記開孔部から注水して前記ゲルマニウム酸化膜を溶解する溶解工程を含むことを特徴とする表面マイクロマシンの製造方法。

IPC (6件)：

H01L 49/00 ,  C23C 16/40 ,  C23F 4/00 ,  G01L 1/14 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

H01L 49/00 Z ,  C23C 16/40 ,  C23F 4/00 Z ,  G01L 1/14 A ,  H01L 21/306 D ,  H01L 21/302 J