特許
J-GLOBAL ID:200903056641081907

フラーレン誘導体の合成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 逢坂 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-271162
公開番号(公開出願番号):特開2002-080414
出願日: 2000年09月07日
公開日(公表日): 2002年03月19日
要約:
【要約】【課題】 合成プロセスが簡素化され、また合成時間を短縮して、所望の高プロトン伝導度を有するフラーレン誘導体を定量的に合成することができる、フラーレン誘導体の合成方法を提供すること【解決手段】 フラーレン分子をシクロスルホン化する工程とこのシクロスルホン化フラーレンを含む反応生成物をそのまま水中に投入して水と反応させ前記フラーレン分子を構成する炭素原子にプロトン(H+)解離性の硫酸水素エステル基などを有するフラーレン誘導体を生成する工程とを有するフラーレン誘導体の合成方法
請求項(抜粋):
フラーレン分子をシクロスルホン化する工程とこのシクロスルホン化フラーレンを含む反応生成物をそのまま水と反応させ前記フラーレン分子を構成する炭素原子にプロトン(H+)解離性の基を有するフラーレン誘導体を生成する工程とを有するフラーレン誘導体の合成方法
IPC (6件):
C07C 29/12 ,  C07C 35/44 ,  C07C305/22 ,  C07F 9/117 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10
FI (6件):
C07C 29/12 ,  C07C 35/44 ,  C07C305/22 ,  C07F 9/117 ,  H01M 8/02 P ,  H01M 8/10
Fターム (10件):
4H006AA02 ,  4H006AC61 ,  4H006BE43 ,  4H006BE60 ,  4H050AC70 ,  4H050WA11 ,  4H050WA23 ,  5H026AA06 ,  5H026CX05 ,  5H026EE05

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