特許
J-GLOBAL ID:200903056641081907
フラーレン誘導体の合成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
逢坂 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-271162
公開番号(公開出願番号):特開2002-080414
出願日: 2000年09月07日
公開日(公表日): 2002年03月19日
要約:
【要約】【課題】 合成プロセスが簡素化され、また合成時間を短縮して、所望の高プロトン伝導度を有するフラーレン誘導体を定量的に合成することができる、フラーレン誘導体の合成方法を提供すること。【解決手段】 フラーレン分子をシクロスルホン化する工程と、このシクロスルホン化フラーレンを含む反応生成物をそのまま水中に投入して水と反応させ、前記フラーレン分子を構成する炭素原子にプロトン(H+)解離性の硫酸水素エステル基などを有するフラーレン誘導体を生成する工程とを有する、フラーレン誘導体の合成方法。
請求項(抜粋):
フラーレン分子をシクロスルホン化する工程と、このシクロスルホン化フラーレンを含む反応生成物をそのまま水と反応させ、前記フラーレン分子を構成する炭素原子にプロトン(H+)解離性の基を有するフラーレン誘導体を生成する工程とを有する、フラーレン誘導体の合成方法。
IPC (6件):
C07C 29/12
, C07C 35/44
, C07C305/22
, C07F 9/117
, H01M 8/02
, H01M 8/10
FI (6件):
C07C 29/12
, C07C 35/44
, C07C305/22
, C07F 9/117
, H01M 8/02 P
, H01M 8/10
Fターム (10件):
4H006AA02
, 4H006AC61
, 4H006BE43
, 4H006BE60
, 4H050AC70
, 4H050WA11
, 4H050WA23
, 5H026AA06
, 5H026CX05
, 5H026EE05
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