特許
J-GLOBAL ID：200903056657289060
放射線励起による半導体触媒を用いた水素生成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-005460
公開番号（公開出願番号）：特開平5-193902
出願日： 1992年01月16日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：
【要約】【構成】原子力発電所内1の高放射線場である圧力容器3の隣接する場所に反応セル5を設置し気相,液相に分かれたセル内に半導体触媒粉末を入れる。圧力容器3内からの放射線によって半導体触媒は励起して水素が生成する。生成した水素は反応セル5内を循環装置9により循環する。この時、水の放射線分解により水素の生成を促進する添加物を水溶液内に入れておく。使用済みの半導体触媒の水溶液は、排水・注入系6によりサンプリング,供給が可能である。気相へ移行した水素は、水素分離器7と回収装置8で水素,酸素などの生成ガスを分離し貯蔵,蓄積する。【効果】核エネルギの放射線を有効に利用し、放射線励起によって半導体触媒を用いることにより効率良く安定して水素を供給することができる。
請求項（抜粋）：
水素を生成する方法において、半導体触媒を用いて放射線励起を利用することを特徴とする放射線励起による半導体触媒を用いた水素生成装置。
IPC (4件)：
C01B 3/04
, B01J 35/02
, B01J 37/34
, C01G 35/00
