特許
J-GLOBAL ID:200903056661677873
抗菌剤の製造法及び抗菌剤
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
北村 和男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-356724
公開番号(公開出願番号):特開2006-160692
出願日: 2004年12月09日
公開日(公表日): 2006年06月22日
要約:
【課題】 確実且つ安価に合成し得る出発原料として使用し、これを、イオン交換により抗菌力の優れた重金属イオン担持の抗菌剤を製造し、必要に応じ、抗菌力の優れた粉状の製品から多孔質の焼結成形体の製品まで製造し得る重金属イオン担持四ケイ素雲母から成る抗菌剤の製造法とその抗菌剤を提供する。【解決手段】 示性式NaMg2.5(Si4O10)・F2・xH2O(但、x=1〜3)で示されるNa-四ケイ素雲母を原料とし、その層間NaイオンをAg+又はCu2+でイオン交換を行うことを特徴とする金属イオン担持四-ケイ素雲母から成る抗菌剤の製造法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
示性式NaMg2.5(Si4O10)・F2・xH2O(但、x=1〜3)で示されるNa-四ケイ素雲母を原料とし、その層間NaイオンをAg+,Cu+又はCu2+でイオン交換を行うことを特徴とする金属イオン担持四-ケイ素雲母から成る抗菌剤の製造法。
IPC (4件):
A01N 25/08
, A01N 59/16
, A01N 59/20
, A01N 61/00
FI (4件):
A01N25/08
, A01N59/16 A
, A01N59/20 Z
, A01N61/00 B
Fターム (8件):
4H011AA01
, 4H011AA03
, 4H011BA04
, 4H011BB18
, 4H011BC20
, 4H011DA11
, 4H011DD07
, 4H011DF03
引用特許:
出願人引用 (4件)
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金属担持テニオライト
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-255392
出願人:レンゴー株式会社
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特開昭63-250309
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抗菌抗かび剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-356367
出願人:コープケミカル株式会社
-
吸着性多孔質焼結体及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-165417
出願人:オオタケセラム株式会社, 北島圀夫
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審査官引用 (5件)
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