特許

J-GLOBAL ID：200903056664488460

加熱装置及びその方法

発明者： 白川 英一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-119329
公開番号（公開出願番号）：特開2001-307981
出願日： 2000年04月20日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：

【要約】【課題】 基板の湾曲や温度検出手段の位置ずれ等による影響を抑えた安定した加熱処理を行うこと。また、温度検出手段と基板が接触する際に放電が起こらないようにすること。【解決手段】 被処理基板を載置する加熱プレートに、上下に貫通する孔部を設け、この孔部の中に温度検出手段を通すと共にこれを塞ぐように上側に反射鏡を設ける。反射鏡は複数の凹面鏡を組み合わせてなり、いずれも一致しない複数の焦点からなる焦点群を形成するように構成されている。温度検出手段の先端の温度検知部は基板と反射鏡に挟まれ、且つ基板に接することがないように位置決めし、前記反射鏡が形成する焦点群は温度検知部近傍となるように構成する。温度検知部の表面は例えば黒色のセラミックスでコーティングする。

請求項（抜粋）：

基板を載置するための載置部と、この載置部に載置された基板を加熱する加熱手段と、前記基板の裏面と対向して設けられた反射鏡と、前記基板に接近しかつ当該基板と前記反射鏡との間に位置するように設けられ、前記反射鏡よりも小さい温度検知部と、この温度検知部により検出された温度検出値に基づいて前記加熱手段を制御する手段と、を備えたことを特徴とする加熱装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H05B 3/00 365

FI (2件)：

H05B 3/00 365 J ,  H01L 21/30 567

Fターム (13件)：

3K058AA42 ,  3K058BA00 ,  3K058CA23 ,  3K058CA69 ,  3K058CA92 ,  3K058CE13 ,  3K058CE19 ,  3K058EA02 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07 ,  5F046KA10