特許
J-GLOBAL ID：200903056665852157
インプリント装置及びインプリント方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-282987
公開番号（公開出願番号）：特開2002-093748
出願日： 2000年09月19日
公開日（公表日）： 2002年03月29日
要約：
【要約】【課題】 同一基板上に繰り返しプレスすることを可能にし、基板全面に忠実度の高い鋳型パタンの転写が行えるインプリント装置及びそれを用いたインプリント法を提供すること。【解決手段】 基板4を装着する試料台6と、鋳型1が装着されるヘッド2と、ヘッド2に対し試料台6に装着された基板4の任意の位置が対向するように試料台6を移動できる試料ステージ7と、ヘッド2と試料台6とを加熱、冷却してそれぞれ独立に温度を制御するための温調機構8-1,8-2と、基板4と鋳型1とを任意の圧力で押し付けるプレス機構3と、プレスした領域のみに紫外線を照射し、該領域に形成された転写パタンのみを硬化させるUVキュアシステム9と、を具備し、プレスとUVキュアを交互に繰り返すことにより基板全体へのパタン転写を可能としたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
高分子膜が形成された基板にパタンが形成されている鋳型をプレスして、該鋳型のパタンを該高分子膜に転写する装置において、該基板を装着する試料台と、該鋳型が装着されるヘッドと、該ヘッドに対し該試料台に装着された該基板の任意の位置が対向するように該試料台を移動できる試料ステージと、該ヘッドと該試料台とを加熱、冷却してそれぞれ独立に温度を制御するための温調機構と、該基板と該鋳型とを任意の圧力で押し付けるプレス機構と、プレスした領域のみに紫外線を照射し、該領域に形成された転写パタンのみを硬化させるUVキュアシステムと、を具備したことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30
, H01L 21/30 571
