特許
J-GLOBAL ID:200903056677103974

投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 立石 篤司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-111979
公開番号(公開出願番号):特開平10-289871
出願日: 1997年04月14日
公開日(公表日): 1998年10月27日
要約:
【要約】【課題】 マスクを上方から照明しつつ、投影光学系のテレセントリシティのズレに起因するマスク位置の測定誤差の発生を防止する。【解決手段】 観察手段22Aを構成する結像光学系40により、照明光IL1により照明されたマスクR上のマークRM1 の像と、基板ステージWST上に形成された基板側マークWM1の投影光学系PLを介した像とが受光素子42の受光面上に結像される。結像光学系40に焦点ずれがある場合には、光源43により照明されたスリット44の像のマスクRのパターン面からの反射像のセンサ48上の結像位置がずれる。この結像位置に基づいて、調整手段によってマスクRのパターン面と受光素子42の受光面とが共役関係となるように結像光学系40の最良結像面位置と受光素子42の受光面との相対位置関係が調整される。
請求項(抜粋):
露光用の照明光によりマスクを照明し、該マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板ステージに搭載された感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、前記照明光により照明された、前記マスクの前記パターン面に形成されたマスク側マークの像と、前記基板ステージ又は前記感応基板上に形成された基板側マークの前記投影光学系を介した像とを受光素子の受光面上に結像させる結像光学系を含む観察手段と;前記結像光学系の焦点ずれを検出する焦点ずれ検出手段と;前記焦点ずれ検出手段の検出結果に基づいて前記マスクのパターン面と前記受光素子の受光面とが共役関係となるように前記結像光学系の最良結像面位置と前記受光素子の受光面との相対位置関係を調整する調整手段とを有する投影露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (3件):
H01L 21/30 526 A ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H

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