特許
J-GLOBAL ID：200903056697896687
マトリクス基板及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-027718
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242466
出願日： 1993年02月17日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 アクティブ型液晶パネルを構成するマトリクス基板において、アルミニウムよりなる走査線の表面を保護することによって、陽極酸化によって形成されたアルミナ膜の絶縁耐圧を確保する。【構成】 アルミニウム層30上に金属またはシリサイドの層31を被着した状態で感光性樹脂32を用いて走査線のパターニング処理を行い、アルミニウムの陽極酸化を実行する前に接続部以外の金属またはシリサイドの層を除去する。【効果】 アルミニウム表面の平滑度が保持されて、形成されたアルミナ膜の絶縁耐圧を高くでき、かつ走査線への接続のための絶縁膜の開口部形成に設備コストの低いウェツト処理が適用できる。
請求項（抜粋）：
絶縁性基板の一主面上にその表面を陽極酸化されたアルミニウム層よりなる走査線が形成され、絶縁層または絶縁層と半導体層とを介して前記アルミニウム層と直交する信号線が形成されたマトリクス基板において、前記アルミニウム層の一部上に形成された金属層またはシリサイド層が前記信号線への電気信号の供給点または接続点であることを特徴とするマトリクス基板。
IPC (2件)：
G02F 1/136 500
, H01L 29/784
