特許
J-GLOBAL ID:200903056701131950
高純度グアーミールの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 喜平 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-501226
公開番号(公開出願番号):特表2002-504164
出願日: 1998年06月11日
公開日(公表日): 2002年02月05日
要約:
【要約】本発明は、高純度グアーミールの製造方法、および当該方法により得られる毛髪および/または皮膚への使用を目的とし、かつ、すすぎ洗いが可能な、透明かつ水性な化粧品組成物中における、コンディショニング化剤または化粧品組成物を成分希釈する沈殿物としてのヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリドグアーミールの使用方法に関する。
請求項(抜粋):
下記(a)〜(e)の工程を含むことを特徴とする高純度グアーミールの製造方法。(a)グアースプリットを過酸化水素の存在下、アルカリ溶液を用いて65〜70°Cの温度範囲でアルカリ処理する工程(b)アルカリ処理されたグアースプリットを、有機酸または無機酸を用いて部分的に中和をする工程(c)グアースプリットの周囲の細胞層を、機械的に除去する工程(d)グアースプリットを水性アルコール溶液で処理する工程(e)グアースプリットをグラインドしてグアーミールとする工程
IPC (3件):
C08B 37/00
, A61K 31/736
, A61K 47/36
FI (3件):
C08B 37/00 Q
, A61K 31/736
, A61K 47/36
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