特許
J-GLOBAL ID：200903056702081999

カラーフィルター基板の製造方法、カラーフィルター基板、液晶装置及び電子機器

発明者：
瀧澤 圭二

瀧澤 圭二 について

, 
松尾 睦

松尾 睦 について

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岡本 英司

岡本 英司 について

, 
関 ▲琢▼巳

関 ▲琢▼巳 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-063516
公開番号（公開出願番号）：特開2001-255409
出願日： 2000年03月08日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：
【要約】【課題】 アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の溶出を抑制することにより、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に絶縁層を介することなく、カラーフィルター層を形成することを可能にする。【解決手段】 アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜15を形成した基板11を洗浄した後、遮光層17bを形成する。基板11の洗浄はアルカリ金属の水酸化物を含有する洗浄剤を用い、所定の処理温度と処理時間で行われる。次に、色レジスト30の塗布と露光を行う。その後、色レジスト30の現像を行い、着色層17aを形成する。現像液としてアルカリ金属の水酸化物を含有する水溶液を用い、所定の処理温度と処理時間を設定する。
請求項（抜粋）：
基板上に、アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜と、該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に形成されたカラーフィルター層と、を少なくとも具備するカラーフィルター基板の製造方法において、前記アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に前記カラーフィルター層を形成するに際し、該アルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜上に色レジストを塗布し、該色レジストを露光した後、該色レジストを現像する工程において、現像液としてアルカリ金属の水酸化物を0.0008〜0.0012g/L含有する水溶液を用い、処理温度を21〜25°C、処理時間を1〜2分とすることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
IPC (5件)：
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/32 ,  G09F 9/30 349
FI (5件)：
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/32 ,  G09F 9/30 349 A
Fターム (58件)：
2H025AA00 ,  2H025AB13 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025CC11 ,  2H025DA40 ,  2H025EA01 ,  2H025FA04 ,  2H025FA17 ,  2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA16 ,  2H048BA17 ,  2H048BA25 ,  2H048BA29 ,  2H048BB02 ,  2H048BB37 ,  2H048BB42 ,  2H048BB44 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA14Y ,  2H091FA15Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FB04 ,  2H091FB08 ,  2H091FC12 ,  2H091FC24 ,  2H091FD04 ,  2H091LA12 ,  2H096AA00 ,  2H096AA28 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096GA08 ,  2H096GA09 ,  2H096GA60 ,  2H096LA30 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094AA45 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA14 ,  5C094DA15 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EA07 ,  5C094EB02 ,  5C094EC03 ,  5C094ED03 ,  5C094ED11 ,  5C094ED15 ,  5C094GB10 ,  5C094HA03 ,  5C094HA08
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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