特許
J-GLOBAL ID：200903056703658122
加熱ステージ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-065869
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260445
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】 加熱,冷却時のステージの形状変動を極めて小さく抑える。【解決手段】 ワーク1を吸着する吸着孔を中心軸としワークを加熱する円板状のセラミックヒータ14と、セラミックヒータ14の吸着孔の中心軸と同軸に接合し中心軸にワーク1吸着用の穴があり外周の固定部をテーパ状にし先端に雄ネジを有するヒータ支持棒15と、ヒータ支持棒15のテーパ部が挿入される石英ガラス等の低熱膨張材としヒータベース3との接合面を吸着孔の中心軸の吸着面を中心とする球面とした軸対称形状のヒータ座16と、ヒータ座16の周りに圧入する軸対称形状の放熱フィン17と、ヒータベース3と、板バネ7と座金8を介してヒータベース3に固定するナット9と、ヒータに電力を供給する電極10と、セラミックヒータ14の温度を測定する熱電対11と、ワーク1を真空吸着するために必要な真空室を構成するための裏蓋12とを含んで構成される。
請求項（抜粋）：
半導体チップ・基板等のワークを吸着する吸着孔を中心軸とし支持部をテーパ状にしワーク吸着面と反対端に固定用の雄ネジを有する軸対称形状のヒーターブロックと、前記ヒータブロックのテーパ部が挿入されるテーパ状の穴があり熱伝導の悪い材質で作られたヒータベースと、前記ヒータブロックを加熱するために接触させたヒータと、前記ヒータブロックの支持部が熱膨張により伸びたときに緩みが起きないように板バネを介して前記ヒータベースに固定するナットとを含むことを特徴とする加熱ステージ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/66 H
, H01L 21/66 B
, G01R 31/26 H
