特許

J-GLOBAL ID：200903056711985965

インキの製造方法およびその製造方法に使用する装置

発明者： 岩澤正典 ,  中村浩之
出願人/特許権者： ザ・インクテック株式会社
代理人 (1件)： 青木 健二 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-256898
公開番号（公開出願番号）：特開2000-086950
出願日： 1998年09月10日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】【課題】同じ1台の二軸押出機でフラッシング工程とベーキング工程とを連続的に行って、生産効率を大幅に向上し、安定した均一な高品質の顔料分散体を得る。【解決手段】第1ないし第15ブロック内をスクリューが貫通した二軸押出機を用い、第1ないし第7ブロック内を60〜100°Cの範囲内の一定温度に加温保持して、フラッシング工程のワニスおよびペースト顔料の供給、混練および脱水が連続的に行われる。脱水された混練物は第8および第9ブロックで常温常圧下で更によく混練された後、第10ブロックに送られる。第10ないし第15ブロック内が常温常圧に保持され、ミキシング工程の助剤、添加剤および溶剤の供給および送られてきた混練物との混練が連続的に行われる。こうして、フラッシング工程とベーキング工程とが連続的に行われ、安定した均一な品質の、顔料濃度の高い多量の顔料分散体が短時間で得られる。

請求項（抜粋）：

二軸のスクリューが並設された1台の二軸押出機を用いて、顔料とワニスとを混練させて、顔料中の水分をワニスにて置換させながら顔料をワニス中に分散させるフラッシング工程と、ワニスによる置換で分離した顔料中の水分を脱水する脱水工程と、脱水した顔料とワニスとの混練物に助剤、添加剤および溶剤の少なくとも1つを加えて混練し、成分調整する後処理工程とからなるインキの製造方法であって、前記フラッシング工程および前記脱水工程を、常温より高い一定温度で加熱保持した状態で行うとともに、前記後処理工程を常温で行うことを特徴とするインキの製造方法。

IPC (5件)：

C09D 11/00 ,  B01F 3/10 ,  B01F 7/08 ,  C08J 3/20 ,  C09D 17/00

FI (5件)：

C09D 11/00 ,  B01F 3/10 ,  B01F 7/08 B ,  C08J 3/20 C ,  C09D 17/00

Fターム (31件)：

4F070AA71 ,  4F070AE04 ,  4F070AE30 ,  4F070FA05 ,  4F070FB05 ,  4F070FB06 ,  4F070FB07 ,  4F070FB08 ,  4F070FC06 ,  4G035AB41 ,  4G035AB46 ,  4G035AE13 ,  4G078AA04 ,  4G078AA10 ,  4G078AA26 ,  4G078AB05 ,  4G078BA01 ,  4G078BA07 ,  4G078DA09 ,  4G078EA03 ,  4J037AA00 ,  4J037EE25 ,  4J037EE28 ,  4J037EE48 ,  4J037FF15 ,  4J039BE01 ,  4J039BE12 ,  4J039DA05 ,  4J039DA06 ,  4J039DA07 ,  4J039DA08