オゾンを用いた水処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078624
公開番号（公開出願番号）：特開平9-267096
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】上水、下水、産業排水、プールなどの分野で、水中の有機物の酸化分解、殺菌、脱臭等の処理のために現在盛んに導入されつつある、オゾン利用水処理装置において、除去すべき物質の処理性能、特にトリハロメタン前駆物質など難分解性物質の処理性能を向上させる。【解決手段】高濃度オゾン発生器とDUTやSVI-DTなどの下方注入式反応槽とを用いたオゾン利用水処理装置において、オゾン注入の下降管の下部には紫外線照射装置を、また下降管の下部付近には反応触媒注入口を設けて、オゾンの注入とともに、紫外線照射装置からの紫外線照射と、反応触媒注入口からのEDTA、EDDA、または過酸化水素の注入とを組み合わせることにより、オゾンと紫外線や他の酸化剤や触媒の作用で生成する、極めて強い酸化剤のOHラジカルを反応させて、難分解性物質を酸化し、除去率を向上させた。

請求項（抜粋）：

下方注入式でオゾンを注入する、オゾンを用いた水処理装置において、下降部を構成する下降管の下部に紫外線照射装置を設けたことを特徴とするオゾンを用いた水処理装置。

IPC (10件)：

C02F 1/78 ZAB , C02F 1/00 , C02F 1/32 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 540 , C02F 1/50 550 , C02F 1/50 560 , C02F 1/50 , C02F 1/72 101

FI (10件)：

C02F 1/78 ZAB , C02F 1/00 F , C02F 1/32 , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 531 R , C02F 1/50 540 A , C02F 1/50 550 B , C02F 1/50 560 C , C02F 1/50 560 Z , C02F 1/72 101

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