薬液処理方法及びそれに使用する薬液処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：土井育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-021149
公開番号（公開出願番号）：特開2000-218202
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
要約：

【要約】【課題】半導体用フォトマスク、半導体ウエハ、液晶パネル等の製造工程における基板の薬液処理に際して、条件出しを短時間で行え、且つ均一な処理を可能とする。【解決手段】フォトマスク7等の基板を回転ステージ1上に水平に載置し、上方の薬液ノズル8から薬液を扇状にスプレーして基板を化学的に処理する薬液処理方法において、回転ステージ1を回転し且つ上下動しながら薬液をスプレーする。回転ステージ1の回転駆動手段を設けるとともに回転ステージの上下駆動手段を設ける。基板に対してスプレーした薬液の当たる位置を調節するファクターが一つ増えるので、特に大型基板の製造工程における条件出しを短時間で行え、且つ均一な処理が可能になる。

請求項（抜粋）：

基板を回転ステージ上に水平に載置し、上方の薬液ノズルから薬液を扇状にスプレーして基板を化学的に処理する薬液処理方法において、回転ステージを回転し且つ上下動しながら薬液をスプレーするようにしたことを特徴とする薬液処理方法。

IPC (4件)：

B05B 13/02 , B05C 13/00 , G03F 7/30 502 , G03F 7/40 521

FI (4件)：

B05B 13/02 , B05C 13/00 , G03F 7/30 502 , G03F 7/40 521

Fターム (11件)：

2H096AA25 , 2H096GA29 , 2H096HA17 , 4F035AA04 , 4F035CA02 , 4F035CA05 , 4F035CB04 , 4F035CB12 , 4F042AA07 , 4F042EB09 , 4F042EB29

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