特許
J-GLOBAL ID：200903056718228809
ガス供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-258578
公開番号（公開出願番号）：特開平5-068866
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：
【要約】【目的】 半導体ウエハなどの処理部に処理ガスを供給するためのガス供給装置において、バルブなどの各配管機器の小型化、軽量化を図り、ガス供給装置をコンパクト化すること。【構成】 ガス供給源10に接続されたガス配管2には、緊急遮断弁3を介して下流側に減圧弁RG2を設け、これら減圧弁RG2の二次側に圧力センサー5を介してガスフィルタF1やマスフローコントローラMFC1などの配管機器を設ける。圧力センサー5の圧力検出値をコントローラ4にて比較し、圧力検出値が設定値を越えたときに緊急遮断弁3に対して閉指令を出力する。従って減圧弁RG2に異常が起こって例えばその減圧機能がなくなっても一次側の高圧なガスが配管機器へ流入することはない。
請求項（抜粋）：
ガス供給源よりの処理ガスを、ガス供給路に設けた配管機器を介して処理部に供給するためのガス供給装置において、前記ガス供給路における配管機器の上流側に設けた減圧弁と、この減圧弁の二次側のガス圧力を検出するために当該減圧弁と配管機器との間に設けられた圧力検出部と、この圧力検出部の圧力検出値が予め設定した値を越えたときに配管機器への処理ガスの流入を遮断するための遮断部とを有し、前記配管機器の耐圧が減圧弁の一次側のガス圧力よりも小さいことを特徴とするガス供給装置。
IPC (5件)：
B01J 4/00 102
, B01J 7/00
, F17C 13/02 301
, H01L 21/205
, H01L 21/31
