特許
J-GLOBAL ID：200903056720985897
レジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-089122
公開番号（公開出願番号）：特開平5-234851
出願日： 1992年04月09日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【目的】 精度が高く線幅制御性のよいレジストパターンを形成する。【構成】 フォトレジスト膜が形成された基板に、第1の光を所定パターンで露光し、この後に第1の光に対して180度ずれた位相の第2の光を同じパターンで露光し、現像することによって所定パターンを形成する。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト膜が形成された基板に、第1の光を所定パターンで露光し、この後に第1の光に対して180度ずれた位相の第2の光を同じパターンで露光し、現像することによって所定パターンを形成することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 301 C
