特許
J-GLOBAL ID：200903056747329886
ポリッシング用加工定盤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-199483
公開番号（公開出願番号）：特開平6-039704
出願日： 1992年07月27日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：
【要約】【目的】本発明は冷媒の供給量のバラツキ、滞留を防止して均一に冷却できるようにした定盤装置を提供することを目的とする。【構成】被加工物をポリッシング加工する定盤20において、この定盤20に渦巻状に設けられ冷媒を定盤20の外周側から内側中心に向かって流す第1の通路25および冷媒を定盤20の内側中心から外周側に向かって流す第2の通路26からなる冷却通路30と、この冷却通路30の第1および第2の通路25,26の断面形状と略同一断面形状を有し前記第1および第2の通路25,26に冷媒を供給する冷媒供給路29とを具備してなる。
請求項（抜粋）：
被加工物をポリッシング加工する定盤において、前記定盤内に渦巻状に設けられ冷媒を定盤の外周側から内側中心に向かって流す第1の通路および冷媒を定盤の内側中心から外周側に向かって流す第2の通路からなる冷却通路と、この冷却通路の第1および第2の通路の断面形状と略同一断面形状を有し前記第1および第2の通路に冷媒を供給する冷媒供給路と、を具備してなることを特徴とするポリッシング用加工定盤。
IPC (2件)：
B24B 37/04
, H01L 21/304 321
