特許
J-GLOBAL ID：200903056747778559
フオトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-183909
公開番号（公開出願番号）：特開平5-011435
出願日： 1991年06月28日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 投影転写すべきパターンが形成されていない周辺部での漏光がなく、かつ、格別に高精度の位置合わせ手段を用いずとも容易に作製することのできる位相シフトマスクを提供する。【構成】 透明基板1上の所定の位置に設けられるパターン部10は光透過部1aと位相シフト部3aで構成されている。パターン部10近傍の第2領域20aは光透過部1bと位相シフト部3bからなり、光透過部1bと位相シフト部3bは、面積がほぼ等しくかつ回折光が露光装置の投影光学系入射瞳の外側に発散するような間隔で例えば市松格子状に配列されている。第2領域20aの外側の第3領域20bは、透明基板1上に遮光部材2が付加された遮光部2aからなる。設計段階で、パターン部10と第3領域20bの分離間隔はマスク描画装置の位置ぎめ精度3σ(σ=標準偏差)より大きく、第2領域20aを構成する市松格子部分4の幅は2×3σより大きく設定され、市松格子部4と遮光部2aは一部重なっている。
請求項（抜粋）：
所定波長の照明光を透過させる光透過部と、前記照明光を位相変化させて透過させる位相シフト部とを有し、投影光学系を介して所望のパターンを感応基板上に投影転写するために用いられるフォトマスクにおいて、前記光透過部と前記位相シフト部とによってパターンが形成された第1領域と、該第1領域の近傍に位置する第2領域であって、前記光透過部と前記位相シフト部とからなり、前記光透過部と前記位相シフト部はほぼ等しい面積を有し、かつ透過光が投影光学系の入射瞳の外側へ回折するようなピッチで交互に配列された第2領域と、該第2領域の外側に位置し、前記照明光を遮光する第3領域とを備えたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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