特許

J-GLOBAL ID：200903056750029699

X線分光素子およびそれを用いたX線分析装置

発明者： 清水 一明
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-098692
公開番号（公開出願番号）：特開平11-295245
出願日： 1998年04月10日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】 高次反射の妨害線を簡単に除去して正確な分析の行える多層膜X線分光素子およびそれを用いたX線分析装置を提供する。【解決手段】 反射層4 とスペーサ層5 とを交互に複数組積層して構成されるX線分光素子1 において、まず、反射層4 とスペーサ層5 との1組の厚さである周期長d が、積層方向およびX線14,24 が入射される表面1aに沿う方向のいずれにおいても、一定である。一方、周期長d に対する反射層の厚さ dH の比であるΓ値が、積層方向においては一定であり、X線14,24 が入射される表面1aに沿う一定の方向S においては、所定の値をとるよう段階的または連続的に変化する。

請求項（抜粋）：

反射層と、この反射層を形成する元素よりも原子番号の小さい元素を含むスペーサ層とを交互に複数組積層して構成され、入射X線を回折して回折X線を発生させるX線分光素子において、前記積層された反射層とスペーサ層との1組の厚さである周期長が、積層方向およびX線が入射される表面に沿う方向のいずれにおいても、一定であり、前記周期長に対するその周期長を形成する反射層の厚さの比であるΓ値が、積層方向においては一定であり、X線が入射される表面に沿う一定の方向においては、段階的または連続的に変化し、前記変化するΓ値が、約0.25、約0.33、約0.5の一群から選ばれた少なくとも2つをとることを特徴とするX線分光素子。

IPC (3件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/20 ,  G21K 1/06

FI (4件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/20 ,  G21K 1/06 B ,  G21K 1/06 F