特許
J-GLOBAL ID：200903056760828476
メイク洗浄料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-110278
公開番号（公開出願番号）：特開平7-291828
出願日： 1994年04月25日
公開日（公表日）： 1995年11月07日
要約：
【要約】【構成】 化1のポリオキシエチレンモノエステルと、化2のマルチトールエーテルを含有するメイク洗浄料。特に、ポリオキシエチレンモノエステルがモノイソステアレート及び/又はモノオレエートである前記メイク洗浄料。【化1】(式中、R1は飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(Aはマルチトールからa個の水酸基を除いた残基、R2、R3は水素原子、アルキル基又はアルケニル基で、R2、R3の合計炭素数は6〜22、aは1〜3の整数。)【効果】 メイクを落とす効果に優れていると同時に、水を加えることによって泡立たせることができ、使用後の肌にさっぱりした感触を与えるものである。
請求項（抜粋）：
一般式化1で表わされるポリオキシエチレンモノエステルと、一般式化2で表わされるマルチトールエーテルを含有することを特徴とするメイク洗浄料。【化1】(式中、R1は飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(式中、Aはマルチトールからa個の水酸基を除いた残基、R2、R3は水素原子、アルキル基又はアルケニル基で、R2、R3の合計炭素数は6〜22であり、また、aは1〜3の整数を表わす。)
IPC (5件)：
A61K 7/02
, A61K 7/50
, C11D 1/825
, C11D 1:74
, C11D 1:68
