特許

J-GLOBAL ID：200903056760828476

メイク洗浄料

発明者： 内川 恵一 ,  野田 章 ,  中間 康成 ,  宮沢 清
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-110278
公開番号（公開出願番号）：特開平7-291828
出願日： 1994年04月25日
公開日（公表日）： 1995年11月07日
要約：

【要約】【構成】 化1のポリオキシエチレンモノエステルと、化2のマルチトールエーテルを含有するメイク洗浄料。特に、ポリオキシエチレンモノエステルがモノイソステアレート及び/又はモノオレエートである前記メイク洗浄料。【化1】(式中、R1は飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(Aはマルチトールからa個の水酸基を除いた残基、R2、R3は水素原子、アルキル基又はアルケニル基で、R2、R3の合計炭素数は6〜22、aは1〜3の整数。)【効果】 メイクを落とす効果に優れていると同時に、水を加えることによって泡立たせることができ、使用後の肌にさっぱりした感触を与えるものである。

請求項（抜粋）：

一般式化1で表わされるポリオキシエチレンモノエステルと、一般式化2で表わされるマルチトールエーテルを含有することを特徴とするメイク洗浄料。【化1】(式中、R1は飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(式中、Aはマルチトールからa個の水酸基を除いた残基、R2、R3は水素原子、アルキル基又はアルケニル基で、R2、R3の合計炭素数は6〜22であり、また、aは1〜3の整数を表わす。)

IPC (5件)：

A61K 7/02 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/825 ,  C11D 1:74 ,  C11D 1:68

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 皮膚洗浄料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-282238   出願人：株式会社資生堂
• 洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-340976   出願人：花王株式会社
• 特開平4-154716
  
• 特開平1-093598