特許

J-GLOBAL ID：200903056769789244

非線形光学シリカガラスおよびその製造方法

発明者： 山形 茂
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-123226
公開番号（公開出願番号）：特開平7-306426
出願日： 1994年05月13日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：

【要約】【目的】 第2高調波発生効率が大きく、耐レ-ザ-損傷性の高い波長変換用非線形光学シリカガラスを提供すること。【構成】 遷移金属元素の少なくとも1種類以上を10〜5,000wt.ppm、アルミニウムまたはリンの少なくとも1種類を10〜5,000wt.ppm含有し、かつOH基濃度が10〜5,000wt.ppmであるシリカガラスまたはシリカガラスファイバーをポ-リング処理またはシ-ディング処理してなる非線形光学シリカガラスおよびその製造方法。

請求項（抜粋）：

遷移金属元素の少なくとも1種類以上を10〜5,000wt.ppm、アルミニウムまたはリンの少なくとも1種類を10〜5,000wt.ppm含有し、かつOH基濃度が10〜5,000wt.ppmであるシリカガラスをポ-リング処理してなる非線形光学シリカガラス。

IPC (5件)：

G02F 1/35 505 ,  C03B 27/00 ,  C03C 3/06 ,  C03C 4/00 ,  G02F 1/37