特許
J-GLOBAL ID：200903056770894760
露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-287274
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140300
出願日： 1992年10月26日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】密着露光法の簡便さを維持したまま、高解像度の露光を可能とする露光方法を提供すること。【構成】基板上に設けられた微細図形状誘電体により構成される位相シフト型光学マスクを感光性物質膜に近接して配置し、位相シフト型光学マスクに光を照射し、回折光の干渉によって生ずる光の明暗像中に0次回折光が現れない又は極めて小さい条件で、感光性物質膜に光の明暗像を直接転写する露光方法。
請求項（抜粋）：
基板上に設けられた微細図形状誘電体により構成される位相シフト型光学マスクを感光性物質膜に近接して配置し、該位相シフト型光学マスクに光を照射し、回折光の干渉によって生ずる光の明暗像を該感光性物質膜に直接転写することを特徴とする露光方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03C 5/02
, G03C 5/08 351
, G03F 7/20 521
