特許
J-GLOBAL ID：200903056778093333
シリカ系複合酸化物粒子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-099619
公開番号（公開出願番号）：特開2007-269594
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：
【課題】 反射防止層や透明な高屈折率樹脂やフィルムの添加剤として極めて有用な単分散性、円形度の高いシリカ系複合酸化物粒子を効率的に製造する方法を提供する。 【解決手段】 水を含む反応溶媒中にテトラアルコキシシランなどのシリカ原料物質とチタンテトライソプロポキシドなどの異種酸化物原料物質を添加して反応させてシリカ系複合酸化物粒子を製造するに際し、上記反応溶媒中にアセトニトリルを添加すると共に、反応液に含まれるアセトニトリルの濃度を20質量%以上に保ちながら前記反応を行う。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
水及び有機溶媒を含んでなる反応溶媒中に、シリコンのアルコキシド及び/又は該アルコキシドから誘導される可縮合性化合物、並びにシリコン以外の金属のアルコキシド、該アルコキシドから誘導される可縮合性化合物、及びシリコン以外の金属の塩からなる群より選ばれる少なくとも1種を添加して反応させる工程を含むシリカ系複合酸化物粒子の製造方法において、前記有機溶媒の少なくとも1成分としてアセトニトリルを使用すると共に、反応液に含まれるアセトニトリルの濃度を20質量%以上に保ちながら前記反応を行うことを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (18件)：
4G072AA35
, 4G072AA36
, 4G072AA37
, 4G072BB07
, 4G072GG01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH14
, 4G072HH30
, 4G072JJ46
, 4G072LL06
, 4G072LL15
, 4G072MM01
, 4G072MM02
, 4G072MM21
, 4G072RR05
, 4G072RR12
, 4G072TT01
