特許
J-GLOBAL ID：200903056785399375
真空アーク蒸着方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
明田 莞
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-067207
公開番号（公開出願番号）：特開平8-260132
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：
【要約】【構成】 機械的なアーク点火機構18で点弧される真空アーク放電を間欠的に発生させることなく連続して発生させたままで、空心電磁コイル17による磁場を間欠的に発生させて、その磁場発生期間ごとに基板Sにターゲット14からのターゲット材料物質イオンを間欠的に導く。【効果】 アーク点火機構に起因する装置信頼性の低下やターゲットにおけるアーク点火点付近の偏った局部的消耗を引き起こすことなく、基板上にターゲットからのターゲット材料物質イオンを間欠的に堆積させて基板硬度低下などを引き起こすような基板温度上昇を生じることなく皮膜形成を行うことができる。
請求項（抜粋）：
皮膜形成用の蒸発されるべき材料よりなるターゲットを陰極として真空アーク放電を連続して発生させ、これによって前記ターゲットの蒸発面からそのターゲット材料物質を蒸発させてターゲット材料物質イオンと電子とからなるプラズマを連続して生成させる一方、この生成されたプラズマを基板に誘導可能な磁場を間欠的に発生させて、その磁場発生期間ごとに前記ターゲット材料物質イオンを基板に導いて皮膜形成を行うことを特徴とする真空アーク蒸着方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/32 Z
, B23P 15/28 A
