特許

J-GLOBAL ID：200903056789124850

超高スループット・ウェハ真空処理システム

発明者： ダン メイダン ,  アショック シンハ ,  ケヴィン フェアベアン ,  クリストファー レーン ,  ケリー コルボーン ,  ハリ ポンネカンティ ,  ダブリュー. ニック テイラー ,  サスーン ソメック
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-317141
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154739
出願日： 1997年11月18日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 1つの処理室内で少なくとも2つのウェハを同時に処理するロードロック室、移送室及び1以上の処理室を含むウェハ処理用装置を提供する。【解決手段】 ロードロック室と、搬送室と、前記搬送室に接続された複数の分離した処理領域を各々に定義する1つ以上の処理室と、前記搬送室内に配置された第1ウェハ・ハンドリング部材を含むウェハ処理装置を提供する。処理室は、少なくとも2つの処理領域で複数の分離されたプロセスを同時に行なうことができるように構成し、共有ガス源、共有排気システム、別個のガス分配アセンブリ、別個のRF電源、および別個の温度制御システムによってもたらされる高度な処理制御により、1つの処理室内で少なくとも2つのウェハを同時に処理することができる。

請求項（抜粋）：

(a)ロードロック室と、(b)搬送室と、(c)前記搬送室に接続された複数の分離した処理領域を各々に定義する1つ以上の処理室と、(d)前記搬送室内に配置された第1ウェハ・ハンドリング部材、を含むウェハ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 搬送装置およびその搬送装置を有するマルチチャンバ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-109458   出願人：株式会社日立製作所, 日立北海セミコンダクタ株式会社