特許
J-GLOBAL ID：200903056789430048
多重露光用マスク及びこれを用いたマイクロマシンの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-165811
公開番号（公開出願番号）：特開平11-015126
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 1枚のマスクで複数段構造のマイクロマシンを製造するための露光を行うことのできる多重露光用マスクを提供すること。【解決手段】 マイクロマシンは、上下方向に関して2段以上のパーツに分解可能であって最下段のパーツから順に形成することで製造される。そのための多重露光用マスク20は、マスク領域を前記パーツの数に応じて複数のパターン領域20A、20Bに分割し、それぞれのパターン領域に、分解された各パーツを形成するためのパターン20-1、20-2を形成する。しかも、各パターン領域は、それぞれのパターンがマスク中心に関して前記複数の数で分割された角度だけ多重露光用マスクを回転させた時に重なる位置関係になるように設定されている。
請求項（抜粋）：
上下方向に関して2段以上のパーツに分解可能であって最下段のパーツから順に形成することで製造されるマイクロマシンを製造するために使用される多重露光用マスクにおいて、マスク領域を前記パーツの数に応じて複数のパターン領域に分割し、それぞれのパターン領域に、分解された各パーツを形成するためのパターンを形成し、各パターン領域は、それぞれのパターンがマスク中心に関して前記複数の数で分割された角度だけマスクを回転させた時に重なる位置関係になるように設定されていることを特徴とする多重露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
