特許

J-GLOBAL ID：200903056792695079

シリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜およびシリカ系被膜の形成された液晶表示素子

発明者： 島村 泰夫 ,  森嶋 浩之
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-001114
公開番号（公開出願番号）：特開平5-179201
出願日： 1992年01月08日
公開日（公表日）： 1993年07月20日
要約：

【要約】【目的】 保存安定性の良好なシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。【構成】 アルコキシシラン化合物を触媒及び溶媒の存在下で加水分解縮重合させてシロキサンポリマーを合成する際に、アルコキシシラン化合物1モル当り0.5モル以上2モル未満の水を添加し、さらにTiキレート化合物及び/又はZrキレート化合物を加えることを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜を有する液晶表示素子等。

請求項（抜粋）：

アルコキシシラン化合物を触媒及び溶媒の存在下で加水分解縮重合させてシロキサンポリマーを合成する際に、アルコキシシラン化合物1モル当たり0.5モル以上2モル未満の水を添加し、さらにTiキレート化合物及び/又はZrキレート化合物を加えることを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液の製造法。

IPC (4件)：

C09D183/04 PMR ,  C08G 77/18 NUD ,  C08G 77/18 NUG ,  G02F 1/1333 505