特許

J-GLOBAL ID：200903056805737450

ガスバリアフィルム

発明者： 松田 修成 ,  伊関 清司 ,  森原 芳治 ,  小谷 徹 ,  大谷 寿幸 ,  山田 陽三
出願人/特許権者： 東洋紡績株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-131823
公開番号（公開出願番号）：特開平6-340022
出願日： 1993年06月02日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：

【要約】【目的】 耐屈曲性、ガスバリア性に優れた酸化ホウ素・酸化硅素系ガスバリアフィルムを提供することにある。【構成】 プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化ホウ素・酸化硅素系薄膜が形成されたガスバリアフィルムにおいて、該薄膜内の酸化ホウ素の比率が1重量%以上60重量%以下であって、該薄膜の比重と薄膜内の酸化ホウ素組成比率との関係をD=-0.008A+b(D:薄膜の比重,A:薄膜中の酸化ホウ素の重量%、b:酸化硅素のみから成る薄膜の比重)という関係式で表す時、該薄膜の比重を、1.6≦b≦2.5 であらわされる範囲内とすることによって、ガスバリア性に優れ、また、屈曲性の高い、総合的に実用特性のすぐれた酸化ホウ素・酸化珪素系ガスバリアフィルムを提供できる。

請求項（抜粋）：

プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化ホウ素・酸化硅素を主たる成分とする薄膜が形成されたガスバリアフィルムにおいて、該薄膜内に酸化ホウ素の比率が1重量%以上、60重量%以下であって、該薄膜の比重が下記式を満足することを特徴とするガスバリアフィルム。D=-0.008A+b 1.6≦b≦2.5但し D:薄膜の比重、A:薄膜中の酸化ホウ素の重量%b:酸化硅素のみからなる薄膜の比重

IPC (3件)：

B32B 9/00 ,  B32B 27/00 ,  C08J 7/04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-187733
  
• 特開平3-187733
  
• 特開平3-218823
  
• 特開平3-218823