特許
J-GLOBAL ID：200903056808808812
真空成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173350
公開番号（公開出願番号）：特開2001-003168
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：
【要約】【課題】 被成膜体が走行するメインロールに対して成膜ユニットが高精度に位置決めされて成膜動作が行われることで高品質の成膜体を製作しかつメンテナンス性に優れることで生産性を向上させる。【解決手段】 被成膜体2を走行させる走行機構14と、外周部に被成膜体を走行させて成膜部を構成するメインロール13とを有し、真空ポンプ10,11が付設された真空槽4を備える。成膜源28を有する成膜ユニット22がユニット支持機構25によって移動自在に支持され、真空槽を閉塞する第1の位置と開放する第2の位置とに移動される真空槽蓋5を備える。成膜ユニット22は、真空槽蓋5が真空槽3を閉塞する第1の位置に移動されると、真空槽蓋5から真空槽4内へと移送されるとともに、真空槽4に設けた位置決めガイド機構17に沿ってメインロール13に対向する所定位置へと移動されて位置決めされる
請求項（抜粋）：
テープ状の被成膜体を走行させる走行機構と、外周部に上記被成膜体を走行させることによって成膜部を構成するメインロールとが備えられるとともに、真空ポンプが付設された真空槽と、成膜源を有する成膜ユニットと、この成膜ユニットを支持するユニット支持機構とが備えられ、上記真空槽を閉塞する第1の位置と開放する第2の位置とに移動される真空槽蓋とによって構成され、上記成膜ユニットは、上記真空槽蓋が上記真空槽を閉塞する第1の位置に移動されると、上記真空槽蓋から上記真空槽内へと移送されるとともに上記真空槽に設けた位置決めガイド機構により上記メインロールに対向する所定位置へと移動されて位置決めされることを特徴とする真空成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/56 B
, C23C 16/54
4K029AA11
, 4K029BA34
, 4K029BC06
, 4K029BD11
, 4K029CA01
, 4K029CA05
, 4K029DA01
, 4K029DB11
, 4K029DB23
, 4K029DC28
, 4K029KA00
, 4K030BA27
, 4K030CA01
, 4K030CA12
, 4K030GA07
, 4K030HA04
, 4K030JA02
, 4K030KA02
, 4K030LA05
, 4K030LA20
