特許
J-GLOBAL ID：200903056828155882
光コネクターフェルールの研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-009927
公開番号（公開出願番号）：特開平9-192999
出願日： 1996年01月24日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：
【要約】【課題】 セラミックによるフェルールに光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を研磨シートにシリカゲル水溶液を供給した湿式研磨で凸状球面に研磨するについて、表面平滑性および段差のない研磨を行って低反射による伝達効率の向上を図る。【解決手段】 光コネクターフェルール1の先端を研磨シート5とシリカゲル水溶液16を用いて凸状球面に研磨するについて、遊星運動もしくは往復運動させた光コネクターフェルール1の先端を研磨シート5上を摺動させる際に、研磨シート面に1次粒子の平均粒子径が1〜12nmのシリカゲルを濃度が7〜20重量%で含むシリカゲル水溶液16を供給して研磨する。
請求項（抜粋）：
フェルール穴に光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を研磨シートとシリカゲル水溶液を用いて凸状球面に研磨する光コネクターの研磨方法において、遊星運動もしくは往復運動させた光コネクターフェルールの先端を研磨シート上を摺動させる際に、研磨シート面に1次粒子の平均粒子径が1〜12nmのシリカゲルを濃度が7〜20重量%で含むシリカゲル水溶液を供給して研磨することを特徴とする光コネクターフェルールの研磨方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B24B 19/00 J
, B24D 11/00 A
審査官引用 (5件)
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特開平4-100008
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光ファイバコネクタの端面研磨剤
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-242111
出願人：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, エヌ・ティ・ティ・インターナショナル株式会社
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特開平4-100008
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