特許

J-GLOBAL ID：200903056830694200

洗浄剤組成物

発明者： 安藤 正知 ,  亀谷 潤
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-045221
公開番号（公開出願番号）：特開平8-239689
出願日： 1995年03月06日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【構成】 (A)式(1)で表わされる非イオン性界面活性剤、5〜50重量%、(B)ベタイン型界面活性剤1〜10重量%及び(C)式(2)で表わされるアミドエーテルカルボン酸又はその塩1〜10重量%を含有し、その配合量が、(A)>(B)かつ(A)>(C)である洗浄剤組成物。【化1】〔R1 =アルキル基等、m=10〜50、R2 =アルキル基等、R3 =H等、M=金属原子等、n=1〜20〕【効果】 皮膚に対する低刺激性、洗浄性及び起泡性のすべてを高いレベルで実現した。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)、(B)及び(C):(A)一般式(1)【化1】〔式中、R1 は炭素数6〜22のアルキル又はアルケニル基を示し、mは10〜50の数を示す〕で表わされる非イオン性界面活性剤 5〜50重量%、(B)ベタイン型界面活性剤 1〜10重量%、(C)一般式(2)【化2】〔式中、R2 は炭素数5〜23の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル若しくはアルケニル基又は炭素数5〜23の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基で置換されたフェニル基を示し、R3 は水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、-(CH2CH2O)n-CH2COOM又は-(CH2CH2O)nHを示し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルカノールアミン又は塩基性アミノ酸残基を示し、nは1〜20の数を示す〕で表わされるアミドエーテルカルボン酸又はその塩 1〜10重量%を含有し、(A)、(B)及び(C)の配合量が(A)>(B)で、かつ(A)>(C)である洗浄剤組成物。

IPC (9件)：

C11D 1/72 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/90 ,  C11D 1/92 ,  C11D 3/32 ,  C11D 1:90 ,  C11D 1:92

FI (7件)：

C11D 1/72 ,  A61K 7/02 A ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/90 ,  C11D 1/92 ,  C11D 3/32