特許
J-GLOBAL ID:200903056831943662
液晶表示素子の製造方法および製造装置ならびに液晶表示素子
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西教 圭一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-088462
公開番号(公開出願番号):特開2002-287106
出願日: 2001年03月26日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】【課題】 表示駆動基板の収縮ばらつきが生じても、対向基板との正確な貼り合わせが行える液晶表示素子の製造方法を提供する。また、高精細かつ高開口率で光漏れのない、画像表示品質の高い液晶表示素子を提供する。また、かかる製造方法により液晶表示素子を製造する製造装置を提供する。【解決手段】 作製済みの表示駆動基板27に設けられているEGAマーク40を読み取り、EGAマーク40の位置を基準として対向基板の遮光膜開口部および貼り合せマーク部の露光位置分布を決定し、該露光位置分布にしたがって露光処理を行うことで対向基板を作製する。
請求項(抜粋):
画素電極、薄膜トランジスタ、ソース配線およびゲート配線を有する複数の表示駆動基板画素部、貼り合わせマークが形成されている貼り合わせマーク部および重ね合わせ露光用アライメントマークを備えて構成される表示駆動基板と、対向電極、開口部を有する遮光膜を有する複数の対向基板画素部および貼り合わせマーク部を備えて構成される対向基板とを貼り合わせて成る液晶表示素子の製造方法であって、表示駆動基板を作製する工程、対向基板を作製する工程、および前記表示駆動基板と前記対向基板とを貼り合わせる工程を含み、前記対向基板を作製する工程は、前記表示駆動基板を作製する工程で作製された表示駆動基板に設けられている重ね合わせ露光用アライメントマークを読み取り、該マークの位置を基準として対向基板の遮光膜開口部および貼り合せマーク部の露光位置分布を決定し、該露光位置分布にしたがって露光処理を行う工程を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
IPC (5件):
G02F 1/13 101
, G02F 1/1335 500
, G02F 1/1339 505
, G02F 1/1368
, G03F 7/20 501
FI (5件):
G02F 1/13 101
, G02F 1/1335 500
, G02F 1/1339 505
, G02F 1/1368
, G03F 7/20 501
Fターム (26件):
2H088FA01
, 2H088FA16
, 2H088FA18
, 2H088FA26
, 2H088FA28
, 2H088HA08
, 2H089NA38
, 2H089QA12
, 2H089TA09
, 2H091FA34Y
, 2H091FC10
, 2H091FD04
, 2H091FD12
, 2H091FD15
, 2H091GA09
, 2H091GA13
, 2H092JB77
, 2H092MA16
, 2H092NA07
, 2H092NA27
, 2H097GB00
, 2H097KA03
, 2H097KA13
, 2H097KA16
, 2H097KA22
, 2H097LA12
前のページに戻る