特許
J-GLOBAL ID:200903056832927938

成膜方法およびフラットディスプレイパネル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-096235
公開番号(公開出願番号):特開2004-299985
出願日: 2003年03月31日
公開日(公表日): 2004年10月28日
要約:
【課題】電極膜等の表面性状がフラットディスプレイパネルの表示性能へ与える影響を軽減することができる成膜方法およびフラットディスプレイパネルを提供する。【解決手段】OELD22は、有機膜層24を挟んで両面にそれぞれ電極膜26、28を有するとともに、電極膜26側にはさらにパッシベーション膜30およびアルカリ成分を含むガラス基板32を有する。パッシベーション膜30は、ガラス基板32の温度を50°C以下に保持して、SiO2を主成分とするターゲットを用いた高周波スパッタリング法で成膜されるSiO2膜であり、電極膜26は、イオンプレーティグ法で成膜されるITO膜である。OELD22は、電極膜26の有機膜層24に接する側の面の微小隆起数が5(個/1600pm2)以下である。【選択図】 図12
請求項(抜粋):
アルカリ成分を含むガラス基板の温度を50°C以下に保持してパッシベーション膜を成膜することを特徴とする成膜方法。
IPC (11件):
C03C17/245 ,  C03C17/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  C23C14/18 ,  C23C14/24 ,  C23C14/32 ,  C23C14/54 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 ,  H05B33/28
FI (11件):
C03C17/245 A ,  C03C17/34 Z ,  C23C14/08 D ,  C23C14/10 ,  C23C14/18 ,  C23C14/24 N ,  C23C14/32 ,  C23C14/54 D ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/28
Fターム (27件):
3K007AB11 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC03 ,  4G059AC12 ,  4G059AC24 ,  4G059EA03 ,  4G059EA05 ,  4G059EB03 ,  4G059EB04 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA45 ,  4K029BA46 ,  4K029BA50 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029DC02 ,  4K029EA08

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