特許

J-GLOBAL ID：200903056837139555

低フツ素含有量のケイ素含有セラミツク粉末およびそれらの製造方法

発明者： ゲオルク・ニートフエルト ,  ゲルト・シユビアー ,  ウルリケ・ピツツアー ,  ホルスト・ランゲ
出願人/特許権者： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト ,  エイチ・シー・スタルク・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンジツトゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-341047
公開番号（公開出願番号）：特開平5-238826
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：

【要約】【目的】 低フッ素含有量のケイ素含有セラミック粉末およびそれらの製造方法。【構成】 100°C以上から1500°C以下の温度で、H2、NH3および/または水蒸気である成分と、任意の、窒素および/または貴ガスである更に一層の成分、を含んでいる雰囲気に暴露することによって、高フッ素含有量を有する(例えば、前HF洗浄の結果として)Si、SiCおよび/またはSi3N4セラミック粉末を処理することにより、制御された酸化物含有量および本質的に100ppm未満のフッ素含有量を有すると共に、粉末表面上に検出可能なフッ素が存在していない(即ち0.1原子%以下)、最終セラミック粉末を生じさせる。

請求項（抜粋）：

フッ素含有セラミック粉末開始材料を、100°C以上から1500°Cの温度で、H2、NH3、水蒸気またはこれらのガスの混合物から成る群、前記の1種以上と窒素または貴ガスから成る群から選択される成分との混合物から成る汚染群、から選択される成分から成る雰囲気に服従させることを特徴とする、低いフッ素含有量を有する、非酸化物のケイ素含有セラミック粉末の製造方法。

IPC (5件)：

C04B 35/56 101 ,  C01B 21/068 ,  C01B 31/36 ,  C01B 33/02 ,  C04B 35/58 102